制程 | 能力及精度 | |
光刻胶涂布 | 旋涂 | 胶厚精度≤3% (适用于平面) |
光刻胶涂布 | 喷涂 | 胶厚精度≤10% (适用于平面/凹凸面) |
光刻 | 精度 2um 套准精度:0.15um | |
显影 | 精度2um 显影均匀性<5% | |
蚀刻 | 尺寸散差 ±1um |
公司拥有欧洲进口高精度光刻线,产品最小线宽2um,可以根据客户要求定制。
制程 | 能力及精度 | |
光刻胶涂布 | 旋涂 | 胶厚精度≤3% (适用于平面) |
光刻胶涂布 | 喷涂 | 胶厚精度≤10% (适用于平面/凹凸面) |
光刻 | 精度 2um 套准精度:0.15um | |
显影 | 精度2um 显影均匀性<5% | |
蚀刻 | 尺寸散差 ±1um |
公司拥有欧洲进口高精度光刻线,产品最小线宽2um,可以根据客户要求定制。